電合成/分析流通池技術(shù)分析
以往的電合成是使用大容量電解槽或使用板電極的流動(dòng)電解槽進(jìn)行電解,電解效率相對(duì)較低,我們已將可簡(jiǎn)單快速電解的小容量柱狀電解式流動(dòng)槽商品化。
柱式電解槽的工作電極表面積極大( HX-201(2ml)約為3000 cm 2 ),電極表面擴(kuò)散層薄,可快速實(shí)現(xiàn)定量(庫(kù)侖)電解.
即使對(duì)于緩慢的電極反應(yīng),也可以進(jìn)行定量電解。
由于它可以很容易地連接到光學(xué)測(cè)量單元和各種反應(yīng)系統(tǒng),因此適用于短壽命離子的研究。
由于電解槽可以多級(jí)連接,因此可以對(duì)痕量金屬離子進(jìn)行濃縮、分離和定量測(cè)量。
附有專用參考電極,可輕松獲得高重現(xiàn)性的數(shù)據(jù)。
準(zhǔn)備工作電極(在多孔玻璃管中填充碳纖維的單元)作為備件,便于更換和組裝。
水性和非水性無(wú)機(jī)和有機(jī)化合物的電合成
自由基來(lái)源及短壽命產(chǎn)物研究
痕量金屬離子的濃縮、分離和定量
電解去除流動(dòng)系統(tǒng)(如 HPLC 和 FIA)中的干擾物質(zhì)
電解槽 | HX-201 |
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支持電解質(zhì) | 0.5M lv化鉀 |
注入電解液 | K3Fe ( CN) 6 |
進(jìn)樣量和濃度 | 2毫升 |
電解電位 | -100mV,VS,SCE |
電解槽 | HX-201 |
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支持電解質(zhì) | 0.1M HCl:EtOH=1:1 |
注入電解液 | 5mM 維生su K3 |
注射量 | 20微升 |
速度 | 1.0毫升/分鐘 |
電解槽 | HX-201 |
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支持電解質(zhì) | 0.1M HCl:EtOH=1:1 |
注入電解液 | 20 μl 5 mM 維生su K3 |
速度 | 1.0毫升/分鐘 |
電解電位 | 0.95VVS, SCE |
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